超聲波清洗設備的應用範圍
1、研磨後的清洗
研磨是光學玻璃生產中決定其加工效率和表麵質量（外觀和精（jīng）度）的重要工序。研磨（mó）工序中（zhōng）的（de）主要汙染物為研磨粉和瀝青，少數企業的加工過程中會有（yǒu）漆片。其中研磨粉的型號各異，一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。根據鏡片的材質及研磨精度不（bú）同，選擇不同型號的研磨粉。在研磨過程中使用的（de）瀝青是起保護作用的（de），以防（fáng）止拋光完的鏡麵被劃傷或腐蝕。研磨後（hòu）的清洗設備大致分為兩種： 一種主要使用有機溶劑清洗劑，另（lìng）一（yī）種主要使用半水基清洗劑。
2、鍍膜前清洗
鍍（dù）膜前清洗的主要汙染物是求芯油（也稱磨（mó）邊油，求芯（xīn）也（yě）稱定芯、取芯，指為了得到規定的半（bàn）徑及芯精度而選用的工序）、手印、灰塵等。由於鍍膜工序對鏡片潔淨度的要求極為嚴格（gé），因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的（de）同（tóng）時，還要考慮到他（tā）的腐蝕性等（děng）方麵的問題。